​真空电镀是一种物理沉积现象。即在真空状态下注入氩气，氩气撞击靶材，靶材分离成分子被导电的货品吸附形成一层均匀光滑的表面层。真空电镀加工具有一系列独特的加工特点，以下是对这些特点的详细归纳：
⑴原理与膜层质量：
真空电镀利用真空环境下的物理气相沉积原理，通过电弧、电子束或磁控溅射等方式，将金属蒸汽沉积到基材表面形成金属薄膜。
在真空条件下镀膜，膜层不易受污染，获得的膜层纯度高、致密性好、厚度均匀，具有良好的附着力和耐腐蚀性。
⑵适用范围广：
真空电镀技术可广泛应用于塑料、玻璃、金属等各类基材的表面处理，适用性广泛。
膜材和基体材料有广泛的选择性，可以制备各种不同功能的薄膜。
⑶环保性：
真空电镀生产过程中无废水、废气排放，符合环保要求。
产品中镍、铬元素是零价的，对人体无害。
⑷加工类型与周期：
真空电镀主要包括真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种类型。
例如，真空蒸镀过程中金属（最常用的铝）的熔融、蒸发仅需几秒钟，整个周期一般不超过15秒，镀层厚度为0.8-1.2uM。
⑸表面特性与用途：
真空电镀得到的表面镀层非常薄，但附着力好，同时具有速度快的特点。
真空电镀广泛应用于家用电器、化妆品包装等领域。若其硬度能达到水电镀的等级，水电镀可能会被取代。
⑹成本考虑：
真空电镀的价格通常较高，因为其所用的设备和工艺相对复杂。
尽管如此，由于其高质量的表面处理和广泛的应用范围，真空电镀在许多高端产品中仍然非常受欢迎。
⑺技术细节：
真空电镀技术可以确保镀层均匀、致密，且色泽一致。
对于具有旋转磁控溅射镀膜技术的设备，靶材利用率可以达到70-80%以上，进一步提高了加工效率和材料利用率。